阴离子印迹技术研究进展

杨勤桃, 解庆林

现代化工 ›› 2019, Vol. 39 ›› Issue (S1) : 69-73,78.

PDF(1401 KB)
PDF(1401 KB)
现代化工 ›› 2019, Vol. 39 ›› Issue (S1) : 69-73,78. DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.S.015
技术进展

阴离子印迹技术研究进展

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Research progress in anion imprinting technology

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2019, 39(S1): 69-73,78 https://doi.org/10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.S.015
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2019, 39(S1): 69-73,78 https://doi.org/10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.S.015
中图分类号:

参考文献

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(1401 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航
相关文章

/