原子层沉积技术选择性修饰Mo/HZSM-5对甲烷无氧芳构化反应的影响

doi:10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.12.040

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现代化工 ›› 2019, Vol. 39 ›› Issue (12) : 191-195. DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.12.040

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原子层沉积技术选择性修饰Mo/HZSM-5对甲烷无氧芳构化反应的影响

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Selective modification of Mo/HZSM-5 by atomic layer deposition and effects on methane dehydroaromatizatioin

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收稿日期	修回日期	出版日期
2019-02-02	2019-10-10	2019-12-20
发布日期
2019-12-14

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