EUV光刻胶专利分析及技术热点综述

doi:10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.07.003

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现代化工 ›› 2019, Vol. 39 ›› Issue (7) : 11-16,18. DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.07.003

专论与评述

EUV光刻胶专利分析及技术热点综述

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Overview of patent analysis and key technologies for EUV photoresist

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收稿日期	修回日期	出版日期
2018-11-22	2019-05-26	2019-07-20
发布日期
2019-07-13

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