二硫化钼薄膜的原位制备及其光电化学性能研究

郑朝, 孙明轩, 张强, 吴泓要

现代化工 ›› 2018, Vol. 38 ›› Issue (4) : 122-125.

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现代化工 ›› 2018, Vol. 38 ›› Issue (4) : 122-125. DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2018.04.028
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二硫化钼薄膜的原位制备及其光电化学性能研究

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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In-situ preparation of molybdenum disulfide film and its photoelectrochemical performance

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2018, 38(4): 122-125 https://doi.org/10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2018.04.028
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2018, 38(4): 122-125 https://doi.org/10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2018.04.028
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列表( 原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序 ) 可视化分析

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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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