现代化工

现代化工 ›› 2003, Vol. 23 ›› Issue (8) : 0-0.

XBM

纳米二硫化钼制备现状与发展趋势

胡坤宏沃恒洲韩效钊胡献国

作者信息 +

Author information +

文章历史 +

PDF (445K)

摘要

从还原法、分解法、氧化法、电化学法等方面入手，评述了化学法制备纳米二硫化钼的现状。介绍了用单层MoS2重堆积制备纳米插层化合物(夹层化合物)的方法，包括制备的机理、客体物质的种类及MoS2插层化合物的性能与应用等。简要介绍了二硫化钼的结构、性质与功能以及制备纳米MoS2的物理方法。最后对各种制备方法的优缺点进行了分析与对比，并展望了纳米MoS2的制备技术与方法的发展前景，强调纳米MoS2的制备应是多种方法相结合，朝着制备纳米复合型材料的方向发展的观点。中图分类号：TQ136.12；TB383 文献标识码：A 文章编号：0253-4320(2003)08-0014-04