铋基材料在光催化降解抗生素中的研究进展

李丹, 郭小鑫, 程宏俊, 刘侃侃, 刘晓庆

现代化工 ›› 2023, Vol. 43 ›› Issue (8) : 69 -73.

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现代化工 ›› 2023, Vol. 43 ›› Issue (8) : 69-73. DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2023.08.014
技术进展

铋基材料在光催化降解抗生素中的研究进展

    李丹, 郭小鑫, 程宏俊, 刘侃侃, 刘晓庆
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Research progress on application of bismuth-based materials in photocatalytic degradation of antibiotics

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摘要

介绍了铋基光催化材料降解抗生素的机理;并从抗生素降解角度出发,总结了不同种类的铋基光催化剂在降解抗生素领域的最新研究进展;最后对铋基光催化剂在降解抗生素的未来研究方向进行了展望。

Abstract

The degradation mechanism of antibiotics over bismuth-based photocatalytic materials is introduced.Latest research advances on the application of different types of bismuth-based photocatalyst in the degradation of antibiotics are also summarized.Future research direction about bismuth-based photocatalyst for the degradation of antibiotics is also prospected.

关键词

铋基光催化剂 / 降解 / 光催化 / 抗生素

Key words

bismuth-based photocatalyst / degradation / photocatalysis / antibiotics

Author summay

李丹(1999-),女,硕士生。

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铋基材料在光催化降解抗生素中的研究进展[J]. , 2023, 43(8): 69-73 DOI:10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2023.08.014

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