石墨烯/氮化硼异质结制备及应用研究进展

刘岩, 李巧灵, 李兰兰, 唐成春

现代化工 ›› 2020, Vol. 40 ›› Issue (1) : 25 -28.

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现代化工 ›› 2020, Vol. 40 ›› Issue (1) : 25-28. DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2020.01.005
技术进展

石墨烯/氮化硼异质结制备及应用研究进展

    刘岩, 李巧灵, 李兰兰, 唐成春
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Review on preparation of graphene/boron nitride heterojunction and application

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摘要

综述了石墨烯/氮化硼面内异质结和范德华异质结的制备方法及优缺点,概括了石墨烯/氮化硼异质结在场效应晶体管、电化学催化以及热电器件领域的应用,预测了其在光电子和运算存储器件方向的广阔应用前景。

Abstract

The preparation methods for both graphene/boron nitride in-plane heterojunction and Van der Waals heterojunction,and their advantages and disadvantages are reviewed.The applications of graphene/boron nitride heterojunction in field effect transistors,electro-catalysis,and thermoelectric devices are summarized,and the applications in optoelectronics and computing memory devices are also predicted.

关键词

氮化硼 / 应用 / 制备 / 异质结构 / 石墨烯

Key words

boron nitride / application / preparation / heterojunction / graphene

Author summay

刘岩(1984-),女,博士生,研究方向为材料计算与模拟,liuyanhebut@hebut.edu.cn

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石墨烯/氮化硼异质结制备及应用研究进展[J]. , 2020, 40(1): 25-28 DOI:10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2020.01.005

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