现代化工

现代化工 ›› 2003, Vol. 23 ›› Issue (11) : 0-0.

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二次插层法制备有机蒙脱石的研究

张小红蔡立彬尹国强张维刚崔英德

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摘要

用甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵和十六烷基三甲基溴化铵作为插层剂，采取二次插层法制备了有机化蒙脱石，并对一次插层法和二次插层法的效果进行了比较，结果表明，经过二次插层反应后，蒙脱石的层间距从1nm左右增大至3nm，有利于有机分子的进入和形成新的蒙脱石有机复合物。中图分类号：O74 文献标识码：A 文章编号：0253-4320(2003)11-0038-02