7 nm高分辨率极紫外光刻胶研究新进展
谭俊玉, 艾照全
Latest progress in 7 nm high resolution extreme ultraviolet photoresist
TAN Jun-yu, AI Zhao-quan
现代化工 . 2022, (3): 79 -84 .  DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2022.03.017

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